Studio di substrati ottici con accuratezza nanometrica realizzati con nuovi materiali mediante tecniche di elettroformatura per applicazioni in litografia UV e astronomia X - 1a Edizione

Staff scientifico ed organizzativo

Destinatari

Il corso è rivolto a laureati e non laureati orientati allo studio delle problematiche nel campo dei materiali innovativi e sulle tecnologie per la realizzazione di strati definiti a livello nanometrico e di caratterizzazione delle proprietà.

Struttura didattica

  • Inizio delle lezioni: 02/03/2010
  • Fine delle lezioni: 11/03/2011
  • Totale ore: 720

Finalità e Contenuti

I settori industriali nei quali rientrano le tematiche del corso evidenziano rilevanti esigenze scientifiche e tecnologiche, legate alla forte competizione internazionale, che rendono indispensabile una innovazione continua di prodotto e di processo. Il settore delle ottiche per litografia EUV e per astronomia X è fortemente soggetto a esigenze di aumento della qualità del prodotto, riduzione dei costi, ricerca di nuovi prodotti e/o processi in grado di aumentare le caratteristiche. Il campo di applicazioni degli specchi riflettenti per raggi X è in forte evoluzione sia come applicazioni specifiche sia come contaminazione tecnologica verso altre applicazioni, si pensi alle tecnologie EUV (extreme ultraviolet ) per la litografia di semiconduttori.
Il corso affronterà nel dettaglio la scelta dei materiali, il processo produttivo e la caratterizzazione delle superfici per la realizzazione di ottiche per raggi X e specchi per litografia EUV.

Brochure (Calendario e quote d'iscrizione)

Quota di iscrizione:  Quota intera: lezioni + esercitazioni € 1200,00
(La quota è esente IVA ai sensi dell'art. 10 DPR 633/26.10.72 e successive modificazioni).
Per le modalità di pagamento contattare la segreteria del corso.
Disponibilità di borse di formazione da Media Lario Technologies.

Collaborazioni

Media Lario Technologies

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