Studio di substrati ottici con accuratezza nanometrica realizzati con nuovi materiali mediante tecniche di elettroformatura per applicazioni in litografia UV e astronomia X - 1a Edizione
Staff scientifico ed organizzativo
- Struttura Proponente:
Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica G. Natta - Direttore:
Prof. Cavallotti Pietro Luigi (Tel. 02 -23993149) - Co-Direttore:
Dott.Magagnin Luca (Tel. 02 - 23993124) - Segreteria:
Dott.Magagnin Luca (Tel. 02 - 23993124)
Destinatari
Il corso è rivolto a laureati e non laureati orientati allo studio delle problematiche nel campo dei materiali innovativi e sulle tecnologie per la realizzazione di strati definiti a livello nanometrico e di caratterizzazione delle proprietà.
Struttura didattica
- Inizio delle lezioni: 02/03/2010
- Fine delle lezioni: 11/03/2011
- Totale ore: 720
Finalità e Contenuti
I settori industriali nei quali rientrano le tematiche del corso evidenziano rilevanti esigenze scientifiche e tecnologiche, legate alla forte competizione internazionale, che rendono indispensabile una innovazione continua di prodotto e di processo. Il settore delle ottiche per litografia EUV e per astronomia X è fortemente soggetto a esigenze di aumento della qualità del prodotto, riduzione dei costi, ricerca di nuovi prodotti e/o processi in grado di aumentare le caratteristiche. Il campo di applicazioni degli specchi riflettenti per raggi X è in forte evoluzione sia come applicazioni specifiche sia come contaminazione tecnologica verso altre applicazioni, si pensi alle tecnologie EUV (extreme ultraviolet ) per la litografia di semiconduttori. Il corso affronterà nel dettaglio la scelta dei materiali, il processo produttivo e la caratterizzazione delle superfici per la realizzazione di ottiche per raggi X e specchi per litografia EUV.
Brochure (Calendario e quote d'iscrizione)
LocandinaII2010_Cavallotti_13.pdf (184 kb)
Collaborazioni
Media Lario Technologies
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